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瑞士博勢 Proceq Equotip Bambino 2里氏硬度計(jì)

特點(diǎn)：
快速填裝、觸發(fā)機(jī)制以及自動(dòng)補(bǔ)償沖擊方向 (360°)
測量范圍廣，采用常見的硬度標(biāo)度（HL、HV、HB、HRC、HRB、HS）
直觀的顯示屏，以大字號醒目的顯示一個(gè)讀數(shù) + 測量系列的均值
2 合 1：通用 Equotip D 探頭與輕薄的 DL 噴嘴（附件）的切換很方便
防刮硬質(zhì)鋅合金外殼 – 經(jīng)久耐用、外形小巧
開機(jī)/待機(jī)智能切換，充分延長電池使用時(shí)間
借助 USB 通過 Internet 免費(fèi)更新固件

技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)指標(biāo)：   測量范圍： 150-950 里氏（HL）/ 250-970里氏（HLDL）   硬 度 值： 80-955維氏（HV）,81-678布氏（HB）,     20-70洛氏（HRC）、 38-102洛氏（HRB），     30-100邵氏（HS）   精 確 度： 1里氏（HL）,1維氏（HV）,1布氏（HB）,     0.1洛氏（HRC）、 0.1洛氏（HRB），1邵氏（HS）   沖擊能量： 11mJ（11Nmm）   沖擊球頭： Φ 3mm，碳化鎢 硬度1500維氏（HV）   D型沖擊體： 5.5g   沖擊方向： 自動(dòng)感應(yīng)及補(bǔ)償   測量精度： ±4HLD / HLDL（800HLD / HLDL 時(shí)為0.5%）   制作材料： 防刮痕電鍍鋁   顯 示 屏： 大屏幕、高亮度LCD   ON / OFF： 自動(dòng)化，高智慧型“活躍狀態(tài)”及“靜態(tài)”   電 　 池： 鋰電池，可用USB接頭或AC充電器/轉(zhuǎn)接器充電   工作環(huán)境： -10至+60 ℃，zui高空氣濕度 90%   儀器尺寸： 147.5 x 44 x 20 mm （ 203 x 44 x 20 mm 配DL裝置）   重 　 量： 142g（152g 配DL裝置） 對測試件的要求：   1.對測試件表面的要求     粗糙度 ISO N7     zui大粗糙度 Rt 10 μm     平均粗糙度 CLA,AA,Ra 2 μm         2.對測試件重量的要求       可直接測量試件 5 kg     需穩(wěn)定支撐試件 2 kg     需密實(shí)耦合試件 0.1 kg           3.對測試件厚度的要求       可直接測量試件 25 mm     需穩(wěn)定支撐試件 3 mm     硬化層 0.8 mm           4.壓痕（760HLD時(shí)）       直徑 0.45 mm     深度 17 μm

標(biāo)準(zhǔn)配置： 一體化主機(jī)及D型探頭、小型D6a及大型D6支撐環(huán)、清潔刷、USB電纜、頸/腕帶、主機(jī)盒、 操作手冊、快速查閱指南、產(chǎn)品證書 可選配件： DL沖擊裝置：這是proceq提供的功能，它可以使EQUOTIP BAMBINO 2 快捷的實(shí)現(xiàn)D / DL沖擊裝置互換。 試塊：用于檢測EQUOTIP儀器是否測量準(zhǔn)確，根據(jù)用戶的需要，可使用不同硬度的試塊（775HLD / 630HV / 56HRC）。 支撐環(huán)：選用不同型號的支撐環(huán)在不同曲面的工件上測量，以保證測量準(zhǔn)確的硬度值。

 適用范圍：

適用于所有金屬材料
理想的制造環(huán)節(jié)測試工具
zui適用于工業(yè)現(xiàn)場為大型、重型及已安裝好工件的測試
方便用于難進(jìn)入或空間有限的測試場地
自動(dòng)感應(yīng)及補(bǔ)償沖擊方向
*的材料選擇及適應(yīng)測試工具
方便用于弧形工件（R>10mm）且測試精準(zhǔn)

廣泛應(yīng)用于：
金屬制造業(yè)及加工業(yè)
汽車及運(yùn)輸業(yè)
機(jī)械及發(fā)電廠
石油化工業(yè)及煉油廠
宇航、航空及造船業(yè)
金屬建筑業(yè)
測試服務(wù)及實(shí)驗(yàn)室等

篤摯儀器（上海）有限公司擁有源自美國、英國、德國等多地區(qū)的合作伙伴，憑借種類齊全的產(chǎn)品資源和服務(wù)，涵蓋光學(xué)儀器、測量儀器、無損檢測、實(shí)驗(yàn)儀器、分析儀器、量具量儀等各類檢測設(shè)備，努力為客戶解決日新月異的測量分析技術(shù)挑戰(zhàn)，共同提供定制化精密測量和性能分析系統(tǒng)解決方案，有效推動(dòng)企業(yè)實(shí)現(xiàn)既定目標(biāo)。